Переход к однолитографической технологии ведет к ее коренным изменениям. Однократность переноса топологической информации на обрабатываемую пластину позволяет минимизировать помехи и все последующие технологические операции проводить в замкнутом контролируемом объеме. В результате достигаются следующие цели:

- максимальная стабилизация технологии;

- воспроизводимость предельно минимальных размеров;

- минимизация привносимых дефектов.

ПРИНЦИП: Кодирование основных элементов ИС (активных приборов и элементов межсоединений) элементами плоских прямоугольных графов. Пример однослойной топологии двухвходового вентиля:

СВОЙСТВА: Однократный перенос топологического рисунка на пластину с маской. Сохранение рисунка на маске в течение всего технологического маршрута. Возможность переноса рисунка со схемы на пластину непосредственно. Возможность перехода к схемам с воздушной (вакуумной) изоляцией.

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ: Микросистемы, наноэлектроника, биомолекулярная электроника.

СОСТОЯНИЕ РАЗРАБОТКИ: Выполняется моделирование технологии

V. V. Rakitin Integrated Circuits with Single-Layer Topology

Russian Microelectronics Vol. 25, No. 2, 1996 p. 101

А.С. 2100873 от 27.09.1994